離子清洗特點(diǎn)

　　無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)→氣相物質(zhì)被吸附在固體表面→被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子→產(chǎn)物分子解析形成氣相→反應(yīng)殘余物脫離表面。
　　1、離子清洗機(jī)不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
　　2、容易采用數(shù)控技術(shù)，自動(dòng)化程度高。
　　3、具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高。
　　4、正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證。
　　5、在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。