?離子清洗機的工作原理
電漿與原材料表面可形成的反映關鍵有二種，一種是靠自由基來做化學反應，另一種則是靠低溫等離子作物理反應，下列將作更詳盡的表明。
（1）
?離子清洗機化學反應
在化學反應里常見的汽體有氡氣（H2）、O2（O2）、甲烷氣體（CF4）等，這種汽體在電漿內反映成基酶的自由基，其表達式為這種自由基會進一步與原材料表面作反映。
其反映原理主要是運用等離子體里的自由基來與原材料表面做化學反應，在工作壓力較高時，對自由基的造成較有益，因此若想以化學反應為主導時，就務必操縱較高的工作壓力來近開展反映。
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離子清洗機的工作原理?
（2）
?離子清洗機物理反應
?離子清洗機?主要是運用等離子體里的離子作純物理學的碰撞，把原材料表面的分子或粘附原材料表面的分子做掉，因為離子在工作壓力較低時的均值自由基比較輕長，有得動能的積累，因此在物理學碰撞時，離子的動能越高，越發有的作碰撞，因此若想以物理反應為主導時，就務必操縱較的工作壓力出來開展反映，那樣清洗實際效果不錯，為了更好地進一步表明各種各樣機器設備清洗的實際效果。
等離子體清洗機的原理，主要是借助等離子體中活力顆粒的“活性功效”做到除去物件表面污垢的目地。就反映原理看來，等離子體清洗通常包含下列全過程：有機物汽體被激起為等離子態；氣相色譜化學物質被粘附在固態表面；被吸咐官能團與固態表面分子結構反映轉化成物質分子結構；物質分子結構分析產生氣相色譜；反映殘余物擺脫表面。
等離子體清洗技術性的最大的特征不分解決目標的板材種類，均可開展解決，對金屬材料、半導體材料、金屬氧化物和大部分纖維材料，如聚丙稀、聚酯、聚丙烯腈、聚氯乙烷、環氧樹脂、乃至聚四氟乙烯等都能有效地解決，并可完成總體和部分及其繁雜構造的清洗。
等離子體清洗還具備下列一些特性：非常容易選用數控加工技術，自動化技術水平高；具備精度高的調節設備，時間操縱的精密度很高；恰當的等離子體清洗不容易在表面造成損害層，表面品質獲得確保；因為是在真空泵中開展，不環境污染，確保清洗表面不被二次污染。
